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主要采用高精度化學(xué)腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。

按照目前的工藝條件，特點如下，供大家參考。

1.性價比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過化學(xué)腐蝕制作線條寬0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對較低。

2.高精度化學(xué)腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請合理考慮誤差，并根據(jù)誤差情況，設(shè)計好自己的圖案結(jié)構(gòu)，圖案結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，能事半功倍。價格相對較貴。 

3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差20um，價格貴。 

掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。

備注：一般來說，化學(xué)腐蝕工藝制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價格貴些；高精度激光切割和焊接出來的稍微粗糙點（適合在熱蒸發(fā)鍍膜機中蒸鍍電極，掩模板有凹槽設(shè)計），一般都會打磨，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。

請買家盡量提供CAD圖紙，如果實在不能提供，請?zhí)峁┛梢詼蚀_描述掩模板規(guī)格的草圖。